安山总公司、第 1 工厂和第 2 工厂以及镇川 3 工厂拥有生产和交付
显示器领域的电子级试剂
的经验和设备，目前生产约 40 种产品。
| 产品名称 | 分子式 | 额定值 | 用法/描述 |
|---|---|---|---|
| 果树 | 氢2氧2 | 这 | 它与氨水和超纯水混合，用作清洁剂以去除表面的污染物。 此外，它还与硫酸等材料混合，用作有机物的清洗剂。 |
| 硫酸 | 氢2SO2 | 这 | 它与果树混合，用于清洁有机物。 |
| 氨水 | NH2OH的 | 这 | 它与果树和超纯水混合，用作清洁剂以去除表面的污染物。 |
| 国际音标 | （CH3）2CHOH | ELH | 它用于清洁或去除有机物表面的水分。 它还用作温热的昆虫溶液，以防止电线腐蚀。 |
| 硝酸 | HNO3 | 这 | 它用于清洁设备。它还与其他酸混合并用作蚀刻溶液。 |
| 盐酸 | 盐酸 | 这 | RCA处理后，用作清洁剂的一部分，去除金属离子等。 |
| 醋酸 | CH3COOH | 这 | CH3COOH 它用作缓冲溶液，通过与表面清洁和其他酸混合来提高清洁过程的 均匀性。 |
| 磷酸盐 | H3PO2 | 这 | 用作氮化硅或其他蚀刻蚀刻液的一部分。 |
| 佛山市 | 高频 | 这 | 用作氧化硅的蚀刻溶液。 |
| 丙酮 | CH3COCH3 | ELH | 它用于去除表面上的有机物和清洁设备。 |
| 甲醇 | CH3OH | 这 | 它用于去除表面上的有机物和清洁设备。 |
| 乙醇 | C2H2OH | 这 | 它用于清洁设备。 |
| 蚀刻 | - | - | 它是一种适用于每个工艺的蚀刻溶液，其组成因用户/工艺而异。 |
| CMP的浆料和添加剂 | - | - | CMP Sulrry 及其用于 STI 和 Cu 工艺的添加剂 |
我们的主要产品阵容
| 字段 | 项目 |
|---|---|
| 液晶显示器 | PR Stripper 豆荚剥离器 化学回收技术。 |
| 美联储 | 钼蚀刻剂（Mo/电介质） 铝蚀刻剂（Al/Mo，Mo/Al/Mo） |
| PDP | 同时去除介电层和肋层阻挡层 |
| OLED & 显示膜 | ITO蚀刻剂 铝蚀刻剂 |
| 太阳能电池 | 银粉 [ 3μm & 500 纳米以下 ] 镍粉 铜/银粉（银电极替代品） 铝浆 工艺化学品（IPA、HF、KOH、HCI、HNO3 等） |
| 等。 | 甲基3-甲氧基丙酸盐合成 地面磁传感器 蚀刻剂 金蚀刻剂 钛蚀刻剂 缓冲氧化物蚀刻剂 PR脱墨剂 玻璃清洁剂 容积式卡尔-费休试剂 稀释产品 各种单次或同时蚀刻剂 |
产品列表
湿法 - 蚀刻溶液
| 蚀刻 | 性能 | ||||||||||||||||||||||||
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| 钼 /电介质 |
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| 铝 /钼 |
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| PMMA 上的黄金 /钛 |
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| 氧化铟锡 Indium Tin Oxide |
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| 铬 |
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PR - 剥离剂/清洁剂
| 治疗 | 性能 |
|---|---|
| 有机 剥离剂 |
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| 玻璃 清洁剂 |
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| 肋层屏障 和介电 层去除剂 |
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